Recursos y soluciones
Gerente de producto
- Phone:+86 (0)21 6536 5235
- Contact: Send E-Mail
Desarrollador TMAH
| nombre del producto | Desarrollador TMAH |
|---|---|
| Calificación | EL, MOS |
TMAH, o hidróxido de tetrametilamonio, es un compuesto químico que se utiliza comúnmente como revelador en la industria de los semiconductores, particularmente en el proceso de fotolitografía. La fotolitografía es un paso clave en la fabricación de semiconductores, donde se crean patrones complejos en obleas de silicio para construir circuitos integrados y otros dispositivos electrónicos.
El revelador TMAH de UniVOOK Chemical, que presenta una concentración de TMAH del 2,38 % junto con un agente protector de metales único, encuentra aplicaciones críticas en procesos de fotolitografía de semiconductores. Este desarrollador especializado desempeña un papel fundamental en la formación precisa de patrones en sustratos semiconductores. El contenido de 2,38% de TMAH garantiza la eliminación efectiva de regiones fotorresistentes expuestas o no expuestas, lo que contribuye a la creación de estructuras intrincadas en circuitos integrados.
El compromiso de UniVOOK Chemical con la calidad y la confiabilidad es evidente en este desarrollador TMAH, que brinda a los fabricantes de semiconductores una solución que no solo permite la precisión en la formación de patrones sino que también prioriza la protección de estructuras metálicas subyacentes cruciales.
Características: Desarrollador TMAH
Contenido de TMAH:
El revelador contiene 2,38% de TMAH (hidróxido de tetrametilamonio), un componente crítico para eliminar selectivamente regiones expuestas o no expuestas de fotorresistente durante el proceso de fotolitografía.
Agente protector de metales único:
La inclusión de un agente protector de metales único distingue a este revelador. Este agente está diseñado para proteger eficazmente las capas metálicas subyacentes en sustratos semiconductores. Actúa como barrera protectora, previniendo posibles daños al soporte provocados por la acción química del revelador.
Función protectora:
El agente protector del metal sirve como protección durante el proceso de revelado, asegurando que la acción de grabado sea específica de las capas fotoprotectoras y minimizando al mismo tiempo el impacto en las estructuras metálicas subyacentes. Esta función protectora es crucial para mantener la integridad y funcionalidad del dispositivo semiconductor.
Protección del sustrato:
Al evitar daños al sustrato, el desarrollador contribuye a la fiabilidad general de la fabricación de semiconductores. La protección de las capas metálicas subyacentes es particularmente esencial para mantener la integridad estructural y eléctrica de los circuitos integrados.
Precisión en la formación de patrones:
La combinación de TMAH y el agente protector de metales permite la formación de patrones precisos y controlados en dispositivos semiconductores. Esta precisión es vital para lograr las intrincadas estructuras necesarias para los circuitos integrados avanzados.
Producto relacionado: Solución decapante
El revelador TMAH al 2,38% contiene un agente protector de metales único, que puede proteger eficazmente el metal subyacente y evitar que el líquido cause daños al sustrato;
Para obtener más detalles y recomendaciones de seguridad sobre el uso del producto, consulte nuestra Hoja de datos de seguridad del material (MSDS) o comuníquese con nuestro gerente de producto.
Obtenga una cotización gratuita
Contáctenos para obtener más información. Responderemos su correo electrónico dentro de las 24 horas.
